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本发明涉及一种纳米链结构阵列的制备方法及应用，包括如下步骤：(1)在基底表面采用湿法刻蚀获得具有条状镂空结构阵列的光刻胶层；(2)在带有该光刻胶层的基底上进行沉积得到金纳米薄膜，然后剥离该光刻胶层，在基底表面得到条状镂空金纳米阵列；(3)进行退火处理，最后在基底上制得以金纳米颗粒为基本单元构成的纳米链结构阵列，纳米链之间相互平行且间距为200nm～1000nm，每条所述纳米链的基本单元为金纳米颗粒，每个所述金纳米颗粒之间的间距为2nm～10nm。本发明方法生产成本低并适于大规模生产，本发明的纳米
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112795870 A
(43)申请公布日 2021.05.14
(21)申请号 202011553992.2
(22)申请日 2020.12.24
(71)申请人 江苏
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