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本公开的实施例总体上提供用于处理基板的设备和方法。更具体地,本公开的实施例提供一种处理腔室,所述处理腔室对设置在处理腔室中的基板的边缘具有增强的处理效率。在一个实施例中,处理腔室包含:腔室主体,所述腔室主体在处理腔室中界定内部处理区域;设置在处理腔室中的喷头组件,其中喷头组件具有多个区,其中在喷头组件的边缘区处的孔隙密度比在喷头组件的中心区处的孔隙密度更高;设置在处理腔室的内部处理区域中的基板支撑组件;以及设置在基板支撑组件的边缘上并且围绕基板支撑组件的集中环,其中集中环具有台阶,所述台阶具有基
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112840445 A
(43)申请公布日 2021.05.25
(21)申请号 201980067121.9 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公
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