一种电源芯片制造用晶圆光刻显影蚀刻装置及其制备工艺.pdfVIP

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2023-06-07 发布于四川
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一种电源芯片制造用晶圆光刻显影蚀刻装置及其制备工艺.pdf

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本发明涉及晶圆光刻显影装置技术领域，公开了一种电源芯片制造用晶圆光刻显影蚀刻装置及其制备工艺，通过先启动紫外投影机，使得紫外光通过光罩和凸透镜后照射到晶圆涂膜上使其软化，然后启动液体泵，使得进液管将储液桶内的喷淋剂排进液体泵内，通过液体泵的增压作用，将喷淋剂排进两个出液管内，最后经过喷头喷洒至晶圆上，将晶圆上的晶圆涂膜溶解冲走,使薄膜下的硅暴露出来，从而实现了刻光机构与光致抗蚀剂喷淋机构的一体化，降低了企业的生产成本，先用手握住光罩，然后向外拉动U型把手，使得U型把手在T型槽内滑动，进而带动滑动

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112799282 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 202011625526.0 (22)申请日 2020.12.30 (71)申请人六安优云通信技术有限公司

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