人工晶体生长的温场调控装置和温场动态调控方法.pdfVIP

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2023-06-07 发布于四川
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人工晶体生长的温场调控装置和温场动态调控方法.pdf

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本发明涉及一种人工晶体生长的温场调控装置。所述人工晶体生长的温场调控装置包括温场调节单元、控制单元以及电磁屏蔽结构。所述温场调节单元包括盖设在晶体溶液容器上方的保温盖，所述保温盖的侧壁上设置有垂直距离不同的散热窗，每个散热窗上都设有可改变散热窗孔洞大小的调节板；所述控制单元根据当前温度信息、电源功率信息以及晶体直径信息，实时调整各调节板的开合方向及速度，实现晶体生长温场的动态调整；所述电磁屏蔽结构消除电磁场对装置的负面影响。本发明保证了高品质大尺寸人工光电单晶的稳定生长，并显著降低单晶生长的电能

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112795980 B (45)授权公告日 2022.05.20 (21)申请号 202011521644.7 审查员胡晓珊 (22)申请日 2020.12.21

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