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- 2023-06-08 发布于四川
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本申请公开一种电磁屏蔽膜的制备方法,包括以下步骤:将绝缘层、基材层和导电胶层依序压合在一起;采用镭射的方式自绝缘层的外侧面开槽,该开槽仅贯通绝缘层。在步骤“采用镭射的方式自绝缘层的外侧面开槽”中,采用镭射的ROUT方式。在步骤“采用镭射的方式自绝缘层的外侧面开槽”中,确保基材层的清洁干净。借由上述结构,绝缘层上通过UV镭射的方式设置有接口槽,以实现对外接地,从而不必像现有技术中那样在电磁屏蔽膜外设置额外的上金层,从制备角度而言也更简单,制备成本也更低。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112867253 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202011639285.5
(22)申请日 2020.12.31
(71)申请人 福莱盈电子股份有限公司
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