有关磁控溅射的实际问题.docx

一种增磁装置在磁控射频建设纸杯薄膜中的应用〔王怀义、刁训刚、王聪、郝维昌、王天民〕 磁控溅射技术 王怡德 洛仑兹力 F=QVB 辉光的猛烈程度应当是：过高或过低的真空度都会导致灭辉,真空度太高,自由分子太少,电离后缺乏以形成等离子体,真空度太低,分子自由程太小,也不利于等离子体的维持.我在做射频清洗的试验时也遇到过高真空起辉而低真空灭辉或匹配不好的状况,后来证明是射频电源的接地处理上消灭了问题,经修正后这种状况就没有了. 充气流量越大,辉光就越猛烈,直到知道气压超过肯定压力 本论文中样品承受中科院沈阳科学仪器厂 JGP350 型磁控溅射镀膜机制备，真空抽气系统由机械泵〔前级泵〕和分子泵〔主泵〕