原创力文档- 3
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- 2023-06-08 发布于四川
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本发明提供一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，涉及单晶硅加工技术领域，以解决现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，安装不够稳固，没有缓冲以及支撑结构，同时密封性较差的问题，包括主体，缓冲件；所述主体为环状结构，且主体的外侧为倾斜状结构；所述缓冲件为橡胶材质，且缓冲件安装在固定件的内部。密封仓是用来作为反应室使用的，使得单晶硅在蚀刻的时候，可以在密封仓的内部加工，密封仓可以嵌入到固定件的内部，进而使密封板的底部可以与缓冲件接触，使得缓冲件可以辅助密封仓缓冲冲击力，在与缓冲件接触的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112853500 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202110022764.0
(22)申请日 2021.01.08
(71)申请人 张利峰
地址 314
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