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本发明提供了一种掺杂碳化硅单晶及其制备方法,属于晶体生长技术领域,本发明提供的制备方法,将碳化硅结晶物料在籽晶、混合气氛下进行结晶生长;所述混合气氛包括载气和掺杂气体;所述混合气氛的流量为10~500sccm;所述载气和掺杂气体的体积比为(1~50):1。在本发明中,碳化硅结晶物料在结晶生长的过程中会分解为气相组分,这些气相组分在温度梯度及浓度梯度的驱动下传输至籽晶表面,在籽晶表面冷却沉积;在此过程中,载气和掺杂气体的通入,能够使掺杂气体同生长组分一起生长,进而使掺杂元素进入晶体的晶格中,实现均
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112853491 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202011621835.0
(22)申请日 2020.12.31
(71)申请人 山西烁科晶体有限公司
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