暗场光学检查装置.pdfVIP

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2023-06-08 发布于四川
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暗场光学检查装置.pdf

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本发明涉及一种对诸如用于电子器件、光学器件或电子器件的晶片的基板(3)进行检查的暗场光学装置(1)，该暗场光学装置包括：光源(4)，该光源生成被投射到基板(3)的检查区(P)上并且能够以漫射辐射(5)的形式从该检查区反射的至少一个入射照明光束(4a、4a’、4a”)；至少一个第一收集装置(7a)以及一个第二收集装置(7b)；以及反射光学装置(6)，该反射光学装置沿收集装置(7a、7b)的方向引导漫射辐射(5)的从与检查区(P)重合的光学收集焦点(F)发出的至少一部分，反射光学装置具有第一反射区(

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112867919 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 201980066101.X (74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限