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- 2023-06-08 发布于四川
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本发明提供一种真空卷绕镀膜装置及其处理方法，该真空卷绕镀膜装置的特征在于，具有：放卷室，其用于设置并供给基材；镀膜室，其对由所述放卷室供给的基材在真空中进行镀膜处理；收卷室，其对由所述镀膜室进行镀膜处理后的基材进行卷绕而收卷；第一隔离室，其设置在所述放卷室和所述镀膜室之间；和第二隔离室，其设置在所述收卷室和所述镀膜室之间，所述第一、第二隔离室具有阀门，在所述镀膜室的上下游两端形成独立的密封空间。根据本发明，能够单独对放卷室和/或收卷室进行破空处理，完成设备维护，基材更换等。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112853304 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202011628526.6
(22)申请日 2020.12.31
(71)申请人 广东欣丰科技有限公司
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