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一种高阻隔膜及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-06-09 发布于四川
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一种高阻隔膜及其制备方法.pdf

    一种高阻隔膜，包括柔性基层，由柔性基层的一面依次设置的第一无机氧化物层、第二无机氧化物层、第三无机氧化物层、第四无机氧化物层、保护膜，第一、第二、第三、第四无机氧化物层均由磁控溅射工艺制备而成的，第一层无机氧化物层厚度为10‑20nm，第二层无机氧化物层厚度为20‑40nm，第三层无机氧化物层厚度为10‑20nm，第四层无机氧化物层厚度为5‑20nm。本发明通过对不同靶材在制备过程中相对位置的前后搭配，可实现各个无机氧化物层位置的灵活变化，且整个阻隔膜制备工艺，通过磁控溅射技术可以实现柔性基体一

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112895660 A (43)申请公布日 2021.06.04 (21)申请号 202110317675.9 B65D 65/40 (2006.01)

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