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- 2023-06-09 发布于四川
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本申请实施例提供了一种蒸镀源及蒸镀装置。该蒸镀源包括：蒸镀腔体，包括壳体和设于壳体内的蒸镀腔；加热组件，设于壳体的外围；反射组件，设于加热组件的外围，反射组件朝向壳体的一侧具有设计形状的表面，用于将加热组件的第一区域的部分热量反射到加热组件的第二区域对应的壳体的待加热区域，第一区域的温度高于第二区域的温度。本申请实施例可以将高温区域的部分热量反射到低温区域，提高镀膜的均一性，从而提高了产品的稳定性，进而提高工厂的产能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113088892 A
(43)申请公布日 2021.07.09
(21)申请号 202110348544.7
(22)申请日 2021.03.31
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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