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- 2023-06-09 发布于四川
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本发明公开了一种ITO颗粒的气氛烧结方法，属于ITO靶材加工技术领域，该气氛烧结方法包括以下步骤：S1、ITO素坯的制备：将In2O3粉末和SnO2粉末混合均匀，得到原料粉末，在所述原料粉末中加入粘合剂，混合均匀后喷雾造粒，然后将其装填到模具中，经模压处理及冷等静压处理后，得到ITO素坯；S2、ITO靶材的制备：将上述ITO素坯进行脱脂和抽真空处理，然后在所述ITO素坯孔隙中充入氧气，以使所述ITO素坯在常压、纯氧气氛条件及1500‑1620℃温度下烧结5‑12h，制得ITO靶材。本发明解决了传
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112898014 B
(45)授权公告日 2022.06.07
(21)申请号 202110242931.2 审查员 郭怡欣
(22)申请日 2021.03.05
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