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本发明提供了一种深紫外LED及其制作方法,所述深紫外LED包括:衬底;依次设置在所述衬底一侧的N型半导体层、多量子阱层、电子阻挡层和P型半导体层;其中,所述电子阻挡层为稀磁材料的电子阻挡层。该稀磁材料的电子阻挡层能够在阻挡电子的同时,对空穴的注入也起到正向的作用,提高电子和空穴的空间波函数交叠,进而提高深紫外LED的发光效率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112951961 B
(45)授权公告日 2022.07.12
(21)申请号 202110172071.X H01L 33/06 (2010.01)
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