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本发明公开了一种表面剪切应力敏感膜及其制备方法，涉及表面剪切应力研究领域，包括，在衬底上开设一个凹腔；将聚二甲基硅氧烷和固化剂在‑30℃至20℃温度下低温处理，按照配比进行称重，将两者混合，搅拌均匀后放入真空脱泡筒内进行真空处理，处理完毕后将混合物分成两份；其中一份混合物倒入衬底凹腔中得到混合液；将标记粒子加入到另一份混合物或者酒精中，待混合完毕后均匀喷洒在混合液表面；将衬底转移至升温室内进行升温处理，待混合液固化后得到表面剪切应力敏感膜。通过调整聚二甲基硅氧烷和固化剂的配比调整膜的剪切模量，再
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113004558 A
(43)申请公布日 2021.06.22
(21)申请号 202110219392.0
(22)申请日 2021.02.26
(71)申请人 中国空气动力研究与发展中心设备
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