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本申请提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置，所述阵列基板的制作方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上制作第一金属层，用于形成栅极；在所述第一金属层上制作栅绝缘层；在所述栅绝缘层上制作有源层，所述有源层的材料为含铟氧化物，所述含铟氧化物中的铟原子在金属原子中的占比为0.25‑1；在所述有源层上制作第二金属层，用于形成源漏极。本申请通过在衬底基板上制作栅极和源漏极之间的有源层时，有源层采用铟原子在金属原子中的占比为0.25‑1的富铟含铟氧化物制作形成，以此减少源漏极和有源层之间的接触电
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112992930 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202110151680.7
(22)申请日 2021.02.03
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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