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本发明实施例涉及间隔件结构及其制造方法。本发明一些实施例揭露一种间隔件结构以及一种其的成形加工方法。第一及第二导电结构形成于衬底上方。形成第一图案化介电层，以覆盖所述第一导电结构以及暴露出所述第二导电结构。形成第二介电层，以覆盖所述第一图案化介电层以及所述第二导电结构的上表面及侧壁。去除放置于所述第一导电结构的上表面以及所述第二导电结构的所述上表面上方的所述第二介电层。放置于所述第一导电结构的所述侧壁上的所述第一图案化介电层以及所述第二介电层形成第一间隔件结构，以及放置于所述第二导电结构的所述侧
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112992793 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202110180162.8 (51)Int.Cl.
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