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2023-06-11 发布于四川
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本发明涉及一种镀膜设备，包括成膜室，成膜室内设置有基板架和基板盘，其中基板盘用于搭载待成膜产品，基板架用于悬挂安装基板盘，基板架连接有公转旋转机构，基板盘连接有自转旋转机构，公转旋转机构和自转旋转机构相独立；成膜室的内设置有蒸发源，蒸发源位于基板盘的下方；成膜室的内部设置有水晶监控装置，水晶监控装置用于监控待成膜产品上的成膜膜厚；成膜室一侧具有成膜室门，成膜室和成膜室门之间设置有开关门机构和锁紧机构。本发明的优点是：占地空间小、基片装载量大，有效提高产能；公自转速度可调，基板位置、角度可调，蒸发

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112981356 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110282427.5 (22)申请日 2021.03.16 (71)申请人光驰科技（上海）有限公司

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