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一种三五族半导体器件,包括:具有源极区及漏极区的衬底、源极,设置于衬底且对应于源极区、漏极,设置于衬底且对应于漏极区、栅极,设置于源极及漏极之间、第一保护层,具有第一凹槽及第二凹槽分别设置在源极及漏极上,且覆盖部分衬底,且于栅极及源极与漏极之间的衬底上没有覆盖所述第一保护层、第二保护层,设置在位于漏极的第一保护层的侧壁上,且侧壁相邻于所述栅极以及场板结构,设置于第一凹槽及设置于第二凹槽内并覆盖部分位于源极及漏极上的第一保护层,且在源极上的场板结构延伸至第二保护层上以及覆盖在相邻于第二保护层的部分
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112993018 A
(43)申请公布日
2021.06.18
(21)申请号 20191
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