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本发明公开了一种具有器件辅助图形的版图的OPC修正方法,包括:步骤一、提供具有器件辅助图形的初始版图,在器件辅助图形中选取特征器件辅助图形,在初始版图中截取包含了所选取的特征器件辅助图形的特征子版图,对特征子版图进行OPC修正形成掩模板子图层;步骤二、对初始版图中的特征器件辅助图形进行图形匹配并将匹配到的特征辅助图形都替换为掩模板子图层并生成第一掩模板图层;步骤三、对初始版图中和第一掩模板图层未接触的主图形和器件辅助图形进行OPC修正形成第二掩模板图层,将第一掩模板图层和所述第二掩模版图层进行合
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112987489 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202110196852.2
(22)申请日 2021.02.22
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
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