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本发明涉及一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用，该装置包括：至少一个回灌井水驱机构，用于将水灌入基坑底部土层，并形成驱动渗流场，以驱动后续浆液的定向扩散运移；多个回灌井注入机构，用于向土层中灌入浆液；帷幕形成机构，用于向回灌井注入机构中提供浆液；所述的回灌井水驱机构包括内圈回灌井(15)，所述的回灌井注入机构包括注入回灌井(23)和中心回灌井，所述的注入回灌井(23)分布在内圈回灌井(15)的外圈，所述的中心回灌井位于内圈回灌井(15)内圈。与现有技术相比，本发明能够实现超深基坑的水平减
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113047326 B
(45)授权公告日 2021.12.07
(21)申请号 202110395963.6 C09K 17/42 (2006.01)
(22)申请日
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