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本发明提供一种可防误溅射的物理气相沉积设备，包括腔体、溅射装置、基座、伸缩遮挡模块及伸缩驱动机构；基座和伸缩遮挡模块位于腔体内，且伸缩遮挡模块位于溅射装置和基座之间，包括多个不同内径的可动遮蔽环，多个可动遮蔽环自上而下设置，各可动遮蔽环由2个位于同一平面的半圆环形可动遮挡部构成，各可动遮挡部与伸缩驱动机构相连接；当同一可动遮蔽环的2个可动遮挡部相互接触时构成无缝闭合的环形体，环形体的中心显露出晶圆的镀膜区域，以对晶圆进行边缘遮挡。本发明在物理气相沉积设备内设计多个内径不同的可动遮蔽环，各可动遮蔽
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113025976 B
(45)授权公告日 2021.07.30
(21)申请号 202110568274.0 C23C 14/04 (2006.01)
(22)申请日
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