可防误溅射的物理气相沉积设备.pdfVIP

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本发明提供一种可防误溅射的物理气相沉积设备,包括腔体、溅射装置、基座、伸缩遮挡模块及伸缩驱动机构;基座和伸缩遮挡模块位于腔体内,且伸缩遮挡模块位于溅射装置和基座之间,包括多个不同内径的可动遮蔽环,多个可动遮蔽环自上而下设置,各可动遮蔽环由2个位于同一平面的半圆环形可动遮挡部构成,各可动遮挡部与伸缩驱动机构相连接;当同一可动遮蔽环的2个可动遮挡部相互接触时构成无缝闭合的环形体,环形体的中心显露出晶圆的镀膜区域,以对晶圆进行边缘遮挡。本发明在物理气相沉积设备内设计多个内径不同的可动遮蔽环,各可动遮蔽

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113025976 B (45)授权公告日 2021.07.30 (21)申请号 202110568274.0 C23C 14/04 (2006.01) (22)申请日

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