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2023-06-12 发布于四川
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本申请实施例提供了一种研磨装置及方法，研磨装置可以包括研磨腔体，研磨腔体中设置有研磨机台，研磨机台用于放置待研磨结构，研磨腔体侧壁设置有液体入口和液体出口，液体入口用于向研磨腔体通入研磨液，液体出口用于流出研磨腔体内的研磨液，研磨腔体中的研磨液浸没研磨机台上的待研磨结构时，可以对待研磨结构进行研磨，由于在待研磨结构被研磨时，待研磨结构被研磨液浸没，其表面与研磨液充分接触并发生反应，可以实现三维方向的充分研磨，而不止现有技术中对待研磨结构的一维表面进行研磨，因此能够适用于更多场景。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113001391 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 202110396008.4 (22)申请日 2021.04.13 (71)申请人中国科学院微电子研究所

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