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本发明公开了一种具有纳米多级结构的金属Cr涂层及其制备方法，通过磁控溅射在洁净的硅基体上沉积制备具有纳米多级结构的金属Cr涂层，其原理是Ar气经辉光放电后产生高密度Ar+，Ar+在电场的作用下被强烈吸引到负电极并以高速率轰击两个金属Cr直流靶，形成碰撞级联过程溅射出靶原子和二次电子，Cr原子最终反向运动至阳极的硅基体上沉积，而二次电子在正交电磁场的运动方向与电场、磁场垂直，以旋轮线的形式循环运动，提高了Ar的电离率，增加了离子密度和能量，从而实现高速率溅射。最终本发明在不同的沉积气压下制备出具有
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113088904 B
(45)授权公告日 2022.02.11
(21)申请号 202110227118.8 C23C 14/02 (2006.01)
(22)申请日
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