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一种半导体制程机台,包含缓冲室、机器手臂、气流供应源、抽气系统以及多个腔室。缓冲室具有一缓冲室本体,其中缓冲室本体具有进气口、抽气口、一第一晶圆通道以及一第二晶圆通道,其中进气口邻近该第一晶圆通道,抽气口邻近该第二晶圆通道,其中该第一晶圆通道与该第二晶圆通道相对设置。机器手臂设置于缓冲室中。气流供应源连接进气口。抽气系统连接抽气口。多个腔室分别连接缓冲室的第一晶圆通道以及第二晶圆通道。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113113326 A
(43)申请公布日
2021.07.13
(21)申请号 20201
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