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本发明公开了一种具有凹面的靶材背板的制造方法,包括:平板坯料退火:在真空环境或惰性气体环境中,对平板坯料进行退火,退火温度为380℃至860℃,退火时间为0.4h至4.1h,形成退火平板坯料;锻打成型:在与以上步骤中退火温度相同的条件下,使用具有凸起的锻造模具多次锻打退火平板坯料,直到退火平板坯料具有与锻造模具契合的凹面后停止锻打,形成凹面坯料;凹面坯料退火:在真空环境或惰性气体环境中,对凹面坯料进行退火,退火温度不高于平板坯料退火步骤中的退火温度,退火时间不低于平板坯料退火步骤中的退火时间,形
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113106362 B
(45)授权公告日 2022.07.01
(21)申请号 202110293451.9 C22F 1/04 (2006.01)
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