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本公开的实施例涉及衬底处理装置和方法。一种衬底处理装置,包括内腔室,其由上部分和下部分形成;衬底支撑件,其将衬底支撑在内腔室的上部分中;等离子体系统,其从内腔室的顶侧向内腔室提供等离子体物种;以及外腔室,其包围内腔室的上部分。内腔室的下部分延伸到外腔室的外侧并且保持不被外腔室覆盖。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113106419 A
(43)申请公布日
2021.07.13
(21)申请号 20201
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