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本发明涉及涂层制作技术领域，尤其是一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法，以基板的旋转中心为极点建立极坐标，在所述极坐标的极轴上设置所述基板上的膜厚变化区域所对应的半径；在半径范围内对所述极坐标进行一定数量的半径分割以及一定数量的角度分割；按照各半径分割点所对应的所述掩模版的各遮挡弧度，以样条曲线或直线连接各半径分割线与各角度分割线之间的交点从而形成所述掩模版的边界线。本发明的优点是：实现掩模版形状的快速设计，同时保证掩模版的设计精度满足膜厚变化的需要；可实现掩模版形状的快速调整，适应性强，可适用于
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113088878 A
(43)申请公布日 2021.07.09
(21)申请号 202110399065.8
(22)申请日 2021.04.14
(71)申请人 光驰科技（上海）有限公司
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