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本发明提供载置台和等离子体处理装置。能够用一个密封构件保护高度不同的多个粘接层。载置台具有第1载置部、第2载置部、第1粘接层、第2粘接层以及密封构件。第1载置部用于载置基板。第2载置部低于第1载置部,用于载置包围基板的周缘的边缘环。第1粘接层粘接基台和第1载置部。第2粘接层粘接基台和第2载置部。密封构件在比第1粘接层靠上侧的位置与第1载置部接触,在比第2粘接层靠上侧的位置与第2载置部接触,并通过变形将第1载置部与第2载置部之间堵塞。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113097044 A
(43)申请公布日 2021.07.09
(21)申请号 202011578696.8
(22)申请日 2020.12.28
(30)优先权数据
2020-0017
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