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本发明涉及一种制造至少一个辐射发射器的方法，该方法包括以下步骤：在衬底的顶面上沉积蚀刻停止层；在蚀刻停止层上沉积层堆叠，该层堆叠包括第一接触层、第一反射器、有源区、第二反射器和第二接触层；局部去除层堆叠和蚀刻停止层，从而形成至少一个台面，该至少一个台面包括蚀刻停止层的未去除部分和层状柱，该层状柱基于至少一个台面内未去除的层堆叠形成垂直腔面激光器结构；在衬底的顶面上沉积保护材料，从而将整个台面嵌入保护材料中，其中衬底的背面保持不受保护；通过施加至少一种蚀刻剂来去除衬底，该至少一种蚀刻剂能够蚀刻衬底
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113169520 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 202080006355.5 (74)专利代理机构 长春中科长光知识产权代理
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