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- 2023-06-14 发布于北京
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本发明提供一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台,包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡装置及至少两个光传感器,其中承载盘及部分的遮挡装置位于反应腔体的容置空间内。遮挡装置包括两个遮挡单元及至少一驱动装置,其中驱动装置连接并驱动两个遮挡单元朝相反方向摆动,使得两个遮挡单元操作在开启状态及遮挡状态。两个遮挡单元的上表面皆设置一遮挡凸部及一感测区,其中感测区与遮挡凸部相邻,用以阻隔污染物沉积在感测区,以提高光传感器感测遮挡单元位置的准确性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116254516 A
(43)申请公布日 2023.06.13
(21)申请号 202111499369.8 C23C 14/54 (2006.01)
(22)申请日 2021.12.
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