通过组合一组预定义的分离掩模创建不同设计的方法.pdfVIP

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2023-06-14 发布于四川
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通过组合一组预定义的分离掩模创建不同设计的方法.pdf

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本发明描述用于通过利用多个分离制造掩模的组来实现创建多个类似设计的方法。可基于第一光刻曝光从半导体衬底的裸片区域的第一部分中的材料层形成第一组装置特征。可基于所述第一光刻曝光之后的第二光刻曝光而从所述半导体衬底的所述裸片区域的第二部分中的所述材料层形成第二组装置特征。所述裸片区域的所述第一部分与所述裸片区域的所述第二部分可不重叠。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113168104 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980069378.8 (74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限