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磁隧道结中势垒层的制备方法、磁隧道结及其制备方法.pdfVIP

磁隧道结中势垒层的制备方法、磁隧道结及其制备方法.pdf

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    本发明提供了一种磁隧道结中势垒层的制备方法、磁隧道结及其制备方法。该制备方法包括以下步骤：在参考层或自由层上沉积n次势垒层材料，形成n层势垒层薄膜，在相邻各次沉积势垒层材料的步骤之间，对势垒层材料进行热处理，n为大于2的自然数。上述制备方法中通过各次热处理及下层势垒层薄膜的结构母版的诱导作用，优化了热处理后沉积形成的势垒层薄膜的晶化质量，减少了势垒层薄膜缺陷，提升了势垒层薄膜及其界面的质量，进而不仅降低了磁隧道结的电阻值，还能够保持较高的磁电阻，同时降低了写电压；通过上述沉积前的各次热处理，实验

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113130735 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 20191

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