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本发明涉及一种高稳定性自动调节机构，包括固定在地面的底板和设置于所述底板上的支撑平台，所述底板和所述支撑平台之间设置有垫板，所述支撑平台为大理石平台，所述支撑平台上固定有电动滑台和温度位移反馈机构。本发明的高稳定性自动调节机构，通过控制装置控制电动滑台对束流元件位置进行调整，可实现微米级别的高精度调节；通过温度位移反馈机构，可精确捕捉和反馈温度变化引起的位移变化，并对束流元件的位置进行相应调整，从而提高束流元件的位置稳定性；采用减振台主动减振，有效衰减支撑平台周围环境传递到束流元件上的振动。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113115506 A
(43)申请公布日 2021.07.13
(21)申请号 202110518161.X
(22)申请日 2021.05.12
(71)申请人 中国科学院上海高等研究院
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