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本申请公开了一种半导体工艺设备及其工艺控制方法，解决半导体工艺在测温装置异常时无法有效控温、影响半导体工艺设备可靠性的问题。包括：获取半导体工艺设备中工艺腔室内置的承载台的第一温度和第二温度；判断第二温度是否异常；若确定第二温度正常，则确定半导体工艺设备处于正常模式；在正常模式下，通过温控装置根据第二温度和预设稳定温度，确定实时加热功率；通过控制装置根据第一温度，监控承载台的实时温度；若确定第二温度异常，则确定半导体工艺设备处于异常模式；在异常模式下，通过控制装置根据第一温度和预设稳定温度，确定
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116254514 A
(43)申请公布日 2023.06.13
(21)申请号 202211725717.3
(22)申请日 2022.12.30
(71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司
地
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