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制造研磨处理后构成激光标记的点周边无隆起部的硅晶圆。包括向硅晶圆打印具有多个点的激光标记的激光标记打印工序、相对于硅晶圆的至少打印有激光标记的区域实施蚀刻处理的蚀刻工序、相对于蚀刻工序后的硅晶圆的表面实施研磨处理的研磨工序。上述激光标记打印工序中,将多个点的每一个通过第1工序和第2工序来形成,在前述第1工序中,将激光以第1光束径向硅晶圆的外周部的既定的位置照射来形成点的第1部分,在前述第2工序中,将激光以比第1光束径小的第2光束径向既定的位置照射来形成点的第2部分,进行第1工序,使得第1部分具有
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113169034 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 201980066313.8 (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公
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