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为了对试样的以荧光记号标记的结构进行高分辨率成像，以光强度分布加载试样，在光强度分布中，聚焦的荧光激发光的强度极大值与聚焦的荧光阻抑光的由一些强度极大值包围的强度极小值叠加成光强度分布。在此，以聚焦的荧光阻抑光的强度极小值选择性地扫描试样的感兴趣的部分区域，记录从所述试样发射的荧光以及将其与聚焦的荧光阻抑光的强度极小值在试样中的相应的位置相对应。对于聚焦的荧光阻抑光的强度极小值的相应的位置，当已记录从试样发射的荧光的预给定的最大光量时，和/或，当在预给定的时间段之内还未记录从试样发射的荧光的预给
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113155791 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 202110222595.5 G02B 21/00 (2006.01)
(22)申请日 2
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