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本发明公开了一种改善气体分布的沉积室及MPCVD装置，包括壳体、微波导向天线、基片、上磁板、下磁板，壳体侧壁分别设置进气口和废料口，沉积气体从进气口进入壳体，外界从废料口对壳体内部抽真空，上磁板水平设置在壳体内部的中间位置，下磁板设置在壳体内的底部，基片放置在下磁板上，微波导向天线从壳体顶部插入壳体内，微波导向天线向壳体内导入微波，微波在基片上方激发等离子体，上磁板和下磁板相面对的区域磁性相反形成竖直分布的磁感线，在基片水平面上磁感线至少包括第一磁区，第一磁区磁感线绕一竖直轴线旋转，第一磁区的旋
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113186517 B
(45)授权公告日 2022.03.08
(21)申请号 202110418314.3 C23C 16/52 (2006.01)
(22)申请日
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