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本公开内容一般提供在电子装置制造处理期间向处理腔室的处理空间提供至少为亚稳态的自由基分子物质和/或自由基原子物质的方法及其相关设备。在一个具体实施方式中，设备是设置在远程等离子体源和处理腔室之间的气体注入组件。气体注入组件包括：主体；设置在主体中的介电衬垫，介电衬垫限定了气体混合空间；将气体注入组件耦接至处理腔室的第一凸缘；以及将气体注入组件耦接至远程等离子体源的第二凸缘。气体注入组件还包括穿过主体和衬垫形成的一个或多个气体注入口。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113196444 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 201980082954.2 阿古斯 ·索菲安 ·查德拉
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