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- 2023-06-15 发布于四川
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本发明提供一种化学机械研磨抛光垫整修器及其制备方法，所述抛光垫整修器包括基座，所述基座设置有至少一个凹槽，所述凹槽内部设置有研磨区块，所述研磨区块外表面设置有凸起磨粒，所述区块的厚度不小于所述凹槽的深度。所述整修器通过研磨区块和基座的组合设计，可以通过更换区块来实现整修器与工况的匹配，增加了整修器的使用灵活性，降低了整修器的使用成本。且整修器整体硬度高、耐磨、耐腐蚀，且研磨面凸起的磨粒可以通过加工工艺有效控制，从而保证整修器的修整效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113172553 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110573678.9
(22)申请日 2021.05.25
(71)申请人 宁波江丰电子材料股份有限公司
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