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本发明涉及一种空穴选择性钝化接触电池的制备方法，包括如下步骤：（1）双面制绒；（2）无氧硼掺杂；（3）背面形貌；（4）沉积微晶硅；（5）制备细栅线图形；（6）形成轻掺杂p+层：利用酸刻蚀的方式去除非掩膜区域的微晶硅并刻蚀硼掺杂区域形成P+层；（7）形成高掺杂多晶硅p++层及n+层：通过热氧化后进行磷掺杂或者旋涂的方式经过高温退火分别形成了高掺杂多晶硅p++层及n+层；（8）清洗；（9）钝化；（10）丝网印刷。本发明制备流程简易方便，同时可有效的提升电池效率，且适合批量化生产。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113193081 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 202110458226.6
(22)申请日 2021.04.27
(71)申请人 常州顺风太阳能科技有限公司
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