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本发明公开了一种晶体硅太阳能电池钝化层的制备方法,其包括:(1)提供硅片,并对所述硅片进行预处理;(2)将预处理后的硅片湿法氧化,形成SiO2层;(3)将所述SiO2层进行氢化处理,即得到晶体硅太阳能电池钝化层成品。相应的,本发明还公开了一种晶体硅太阳能电池钝化层,本发明还公开了一种含有上述钝化层的晶体硅太阳能电池。实施本发明,可减少硅片表面的悬挂键,降低表面态密度,提升钝化层的钝化效果。同时,本发明中的制备方法能耗小,成本低,所需设备简单,适合大规模半导体生产工艺。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113161448 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 202110291184.1 H01L 31/068 (2012.01)
(22)申请日
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