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- 2023-06-15 发布于四川
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本发明公开了一种具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法，具有牺牲层的镀腔内壁构件，包括镀腔内壁构件和形成于所述镀腔内壁构件表面的牺牲层，所述牺牲层的材料为ZnO，所述牺牲层在清洗过程中被去除。对被杂质层污染后的所述具有牺牲层的镀腔内壁构件用酸清洗剂进行清洗，所述清洗过程中，所述杂质层和所述牺牲层均被去除，得到清洗后的镀腔内壁构件。本发明的清洗方法付不仅能够清除掉杂质层，同时不伤害原有镀腔内壁构件。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113201718 B
(45)授权公告日 2022.07.12
(21)申请号 202110356878.9 (51)Int.Cl.
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