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在本发明提供的一种TEM样品的制备方法,包括:提供一晶圆,所述晶圆上形成有低密度的层间电介质层;截取所述晶圆获得待测样品;在所述待测样品上形成保护膜,以对所述待测样品产生初步的完整性保护;在所述待测样品的目标区域覆盖胶类材料,并对其进行固化工艺,以进一步保护所述待测样品的形貌;在聚焦离子束内进行待测样品减薄;以形成TEM样品。通过上述方法制备TEM样品,替代用电子束辅助沉积方法在待测样品表面做保护层的方式,避免电子束对待测样品的直接辐照,有效改善电子束的大电流对待测样品带来的直接损伤,避免待测样
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113189370 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 202110593171.X
(22)申请日 2021.05.28
(71)申请人 上海华力微电子有限公司
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