原创力文档- 1、本文档共38页，其中可免费阅读37页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开了一种制备单晶镍铁氧体薄膜的方法，包括以下步骤：在室温下，采用镍铁氧体靶材，在单晶基片上通过磁控溅射，制备得到单晶镍铁氧体薄膜。本发明在室温下通过磁控溅射法可以制备得到单晶镍铁氧体薄膜，无需在溅射过程中对基片进行加热或是后续进行热处理，操作简单，可重复性高，应用前景广阔。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113235159 B
(45)授权公告日 2022.07.01
(21)申请号 202110370455.2 C04B 35/622 (2006.01)
(22)申请日 2021.0
文档评论（0）