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    本发明提供在具有抛光稳定性及抛光对象物的平滑性优异的抛光性能、且具有即使长时间持续抛光、抛光性能的变化也小的特征的无纺布类型的抛光垫中抛光速率高的抛光垫。所述抛光垫是将无孔高分子弹性体和多孔高分子弹性体含浸于无纺布中而得到的抛光垫，其中，所述多孔高分子弹性体包含热塑性聚氨酯，所述无孔高分子弹性体的质量相对于所述多孔高分子弹性体的质量之比为0.49以下。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113226642 A (43)申请公布日 2021.08.06 (21)申请号 201980085424.3 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所

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