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本发明适用于光刻胶材料制备技术领域,提供了一种ArF光刻胶中的酸敏单体的制备方法,所述酸敏单体具体为5,5‑二甲基‑4,8‑二氧杂三环[4.2.1.03,7]壬基‑2‑甲基丙烯酸酯。本发明采用5,5‑二甲基‑4,8‑二氧杂三环[4.2.1.03,7]壬基‑2‑醇、甲基丙烯类反应物和碱性催化剂进行反应,使得本申请反应的产率大大得到提高,产率可高达90%以上。同时,本申请以沉淀和重结晶对反应液进行后处理,后处理方法简单快捷、易操作,而且污染较小,得到产物的纯度较高,其纯度可达99.99%。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113214285 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 202110460097.4
(22)申请日 2021.04.27
(71)申请人 宁波南大光电材料有限公司
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