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本发明公开了一种基于射频磁控溅射的锆钛酸钡薄膜退火方法，属于锆钛酸钡制备技术领域，以钛酸锶为基体，溅射钌酸锶材料作为衬底，利用磁控溅射技术将其溅射到基体表面，然后利用锆钛酸钡靶材溅射锆钛酸钡材料镀在表面，其中锆钛酸钡靶材中锆含量为20mol.％。钌酸锶电极沉积的过程中，采用混合气氛溅射得到薄膜，锆钛酸钡薄膜沉积的过程中，采用混合气氛溅射，得到膜厚为280nm，溅射结束后，对样品进行保温处理，之后取出部分样品进行退火处理；本申请通过退火工艺有效增强了锆钛酸钡薄膜衍射峰的强度，改善锆钛酸钡薄膜的结晶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113215549 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 202110498532.2 C23C 14/46 (2006.01)
(22)申请日 2
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