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本公开提出一种半导体装置。半导体装置包括第一通道区、第二通道区以及第一绝缘鳍片,第一绝缘鳍片插入在第一通道区与第二通道区之间。第一绝缘鳍片包括下部以及上部。下部包括填充材料。上部包括:第一介电层,在下部上,第一介电层为第一介电材料;第一盖层,在第一介电层上,第一盖层为第二介电材料,第二介电材料不同于第一介电材料;以及第二介电层,在第一盖层上,第二介电层为第一介电材料。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114927469 A
(43)申请公布日 2022.08.19
(21)申请号 202210209072.1 H01L 27/088 (2006.01)
(22)申请日 2022.03
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