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本发明的半导体装置,包括:由第一导电型构成的低浓度第一导电型半导体层12;设置在低浓度第一导电型半导体层12上,且由第二导电型构成的第二导电型半导体层13;以及设置在第二导电型半导体层13的一部分上的钝化膜。其中,距离第二导电型半导体层13的一侧的面30μm以内的距离处的杂质浓度可以≤1×1019cm‑3≥1×1017cm‑3。第二导电型半导体层13、以及低浓度第一导电型半导体层12与第二导电型半导体层13之间的界面可以含有重金属。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113284938 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110117781.2 H01L 21/225 (2006.01)
(22)申请日
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